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使用Si (111) 晶片的工藝仿真范例

  • 分類:軟件案例
  • 作者:
  • 來源:
  • 發布時間:2022-07-04
  • 訪問量:874

使用Si (111) 晶片的工藝仿真范例

【概要描述】

  • 分類:軟件案例
  • 作者:
  • 來源:
  • 發布時間:2022-07-04
  • 訪問量:874
詳情

使用Si (111) 晶片制作八邊形結構

 

Si(111) 晶片在KOH溶液中的腐蝕速率分布:

與(100)晶向類似,根據下圖中的速率分布,從(111)晶向進行蝕刻形成的結構具有三個穩定平面(請參見紅色圓圈),截面為三角形。如果蝕刻時間合適,則還可以保留底面(背面)的三個穩定平面,這樣就可以獲得六邊形。但是如果要獲得八邊形,這是一個非常困難的過程。您需要仔細設計布局,結合一些不穩定的平面以獲得所需的結構,這也意味著蝕刻時間也需要非常精確的控制。

 

 

版圖設計:

根據以上分析,我們設計了如下所示的布局。通過適當地控制蝕刻時間,兩個不穩定平面和主要的六個穩定平面同時出現,并且可以獲得八邊形截面。如果繼續蝕刻,八邊形將變成六邊形。

 

腐蝕結果:

下面的圖片展示了腐蝕結果隨時間的變化過程。

 

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