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3D Lithography in FabSim 3D灰度光刻工藝

  • 分類:軟件案例
  • 作者:
  • 來源:
  • 發布時間:2022-07-04
  • 訪問量:746

3D Lithography in FabSim 3D灰度光刻工藝

【概要描述】

  • 分類:軟件案例
  • 作者:
  • 來源:
  • 發布時間:2022-07-04
  • 訪問量:746
詳情

3D灰度光刻工藝可以實現在Intellisuite的工藝模擬階段自定義和優化灰度掩模,并可以查看和分析生成的三維結構,這也將使設計師在最初的想法上更具創新性,并且可以為設計師節省更多的時間和資源。

 

Layout for testing  測試版圖

 

Simulation result  仿真結果

 

01、灰度掩膜圖形生成 

在BluePrint中創建灰度掩模圖案

1. 創建一個新圖層,

2. 在工具菜單中選擇腳本編輯器,

3. 填寫腳本,

4. 單擊運行以生成掩模.

       

 

02、3D 曝光

在IntelliFab中創建三維曝光

1. 在數據庫中選擇 Exposure->UV->3D->Gray-sacle,

2. 在參數中選擇mask_no (請注意,該層中的所有圖案均被視為灰度掩模圖案),

3. 保存文件并在FabSim中進行模擬.

    

數據庫中的3D曝光                                                                    選擇圖層

 

         

 

仿真結果仿                                                                                真結果側視圖

 

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